真空镀膜
自主订制设计，应用波长200~1600nm
热镀和冷镀
RF离子源支持的离子源蒸镀技术
石英膜厚监控和光学膜厚监控
光谱测试范围180~3300nm
常规入射角下透过和反射测量范围180~3300nm
可提供8°~65°入射角陪镀片上剩余反射率测量
可提供70°入射角380~1100nm范围透过反射测量
可提供常规入射角380~1100nm范围球面剩余反射率测量
镀膜前专门的“出新程序”清除基片表面的污染和氧化层
专门的光学光源检查应用于镀膜前基片的准备
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自主订制设计，应用波长200~1600nm
热镀和冷镀
RF离子源支持的离子源蒸镀技术
石英膜厚监控和光学膜厚监控
光谱测试范围180~3300nm
常规入射角下透过和反射测量范围180~3300nm
可提供8°~65°入射角陪镀片上剩余反射率测量
可提供70°入射角380~1100nm范围透过反射测量
可提供常规入射角380~1100nm范围球面剩余反射率测量
镀膜前专门的“出新程序”清除基片表面的污染和氧化层
专门的光学光源检查应用于镀膜前基片的准备
