真空镀膜-丹阳丹耀光学股份有限公司

真空镀膜

自主订制设计，应用波长200~1600nm

热镀和冷镀

RF离子源支持的离子源蒸镀技术

石英膜厚监控和光学膜厚监控

光谱测试范围180~3300nm

常规入射角下透过和反射测量范围180~3300nm

可提供8°~65°入射角陪镀片上剩余反射率测量

可提供70°入射角380~1100nm范围透过反射测量

可提供常规入射角380~1100nm范围球面剩余反射率测量

镀膜前专门的“出新程序”清除基片表面的污染和氧化层

专门的光学光源检查应用于镀膜前基片的准备